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Questão de Eletrônica — Análise de Circuitos — CESPE / CEBRASPE 2024

EletrônicaAnálise de Circuitos
Código
ce172440
Banca
CESPE / CEBRASPE
Órgão
CTI
Ano
2024
Nível
Superior
Cargo
Pesquisador Associado I - Especialidade: Tecnologias Habilitadoras - Área de Atuação: Micro e Nanotecnologia
Julgue o item subsequente, referente às técnicas de micro e nanofabricação.Na litografia ultravioleta extrema (EUVL), são emitidos, no substrato, feixes intensos de luz ultravioleta com comprimentos de ondas maiores e sem o emprego de máscaras, enquanto na litografia por feixe de elétrons (EBL), há o escaneamento de feixes de elétrons em máscaras reflexivas.
  1. CCerto
  2. EErrado
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