Questão de Física — Física Moderna — CESPE / CEBRASPE 2024
FísicaFísica Moderna
- Código
- ce176026
- Banca
- CESPE / CEBRASPE
- Órgão
- LNA
- Ano
- 2024
- Nível
- Superior
- Cargo
- Tecnologista – Especialidade: Desenvolvimento e Integração de Instrumentação Científica e Planejamento e Execução de Atividades em Laboratórios de Pesquisa e Desenvolvimento Tecnológico
Acerca da técnica de deposição química por vapor, assinale a opção correta.
- AÉ inviável a utilização dessa técnica com filmes de óxido de silício.
- BA deposição química por vapor é um método de crescimento escalonável para a síntese de filmes finos.
- CUma baixa razão de velocidade, em moléculas por segundo, implica uma espessura pouco controlada.
- DA velocidade de reação da superfície depende da pressão.
- EA referida técnica é ineficiente para a produção de dispositivos para aplicações em optoeletrônica.