Questão de Eletroeletrônica — Eletrônica Digital em Eletroeletrônica — IADES 2016
EletroeletrônicaEletrônica Digital em Eletroeletrônica
- Código
- qq192181
- Banca
- IADES
- Órgão
- MCTI
- Ano
- 2016
- Nível
- Médio
A técnica de fotolitografia apresenta diversas características requeridas no respectivo processo. Acerca desse assunto, assinale a alternativa correta.
- AA utilização da máscara visa a reproduzir determinado padrão para a lâmina de silício, pois cada padrão transferido na máscara constituirá uma das etapas do processo, que pode ser empregada na construção de um dispositivo.
- BNão é possível utilizar uma fotoalinhadora para transferir o padrão da máscara para o substrato, expondo o material à luz ultravioleta.
- CAs máscaras são reproduções de alta qualidade dos projetos CAD, mas que não podem ser utilizadas na fotogravação.
- DOs sistemas de reprodução por contato ou proximidade não podem utilizar a imagem projetada de uma máscara para fazer a transferência dos padrões da máscara para o filme de fotorresiste.
- ENa etapa de desidratação, no processo de fotolitografia, deve-se reduzir ao menor número possível os contaminantes depositados na lâmina durante o processamento, a manipulação e o transporte.