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Questão de Eletrônica — Eletrônica Digital — IADES 2016

EletrônicaEletrônica Digital
Código
qq192185
Banca
IADES
Órgão
MCTI
Ano
2016
Nível
Médio
Com relação ao processo de fotolitografia, assinale a alternativa correta.
  1. AO objetivo da etapa de exposição do fotorresiste é a remoção do filme das áreas irradiadas durante o processo de exposição e preservação do filme não exposto.
  2. BOs fotorresistes são classificados em positivos e negativos. O fotorresiste positivo é inicialmente um polímero insolúvel na solução utilizada como revelador. O negativo é de início solúvel na solução utilizada como revelador e, durante a exposição, se polimeriza tornando-se insolúvel.
  3. CO objetivo da etapa de processamento do substrato é remover a máscara de fotorresiste, que foi utilizada durante o processo de corrosão.
  4. DO objetivo da etapa de limpeza é reduzir, ao máximo possível, a umidade da superfície do substrato.
  5. ENão são consideradas variáveis relevantes para o controle do processo de desidratação do substrato a umidade relativa e a temperatura do ambiente, além do tempo de desidratação.
Revelar gabarito e comentário

GabaritoB — Os fotorresistes são classificados em positivos e negativos. O fotorresiste positivo é inicialmente um polímero insolúvel na solução utilizada como revelador. O negativo é de início solúvel na solução utilizada como revelador e, durante a exposição, se polimeriza tornando-se insolúvel.

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